光刻胶使用过程中的注意事项

1、 保存: 

光刻胶中的光敏组分是非常脆弱的,除了有温度的要求外,对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包装,再套上黑色塑料袋,光刻胶确实是在半年内使用为好。过期后最好同厂家沟通进行调换,因为只有生产商知道里面的组分,才能进行产品的重新调整。还有就是光敏组分是广谱接受光反应的,并不是仅仅紫外光能够使其失效,只是其它波长光需要的时间长而已。

 
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 2、 光刻胶的涂布温度: 

光刻胶涂布温度一般要和你的室温相同,原因是与室温相同可以最大减少光刻胶的温度波动,从而减少工艺波动。而净化间室温一般是23度,所以一般为23度,一般在旋涂的情况下,高于会中间厚,低于会中间薄。同时涂布前,wafer也需要冷板,保证每次涂布wafer的温度一致。

 

3、 涂布时湿度的控制: 

 现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起,很多时候都只考虑此段的洁净度,而疏忽了该段的湿度控制,使得光刻胶涂覆的良品率比较低,在显影时光刻胶脱落严重,起不到保护阻蚀的效果。

 

4、 涂胶后产品的放置时间的控制 

在生产设备出现故障等特殊情况下,涂完光刻胶的产品需要保留,保留的时间一般不超过8 小时,曝光前如已被感(即胶膜已失效),不能作为正品,需返工处理。 

 

5、 前烘温度和时间的控制 

前烘的目的是促使胶膜内溶剂充分挥发,使胶膜干燥以增强胶膜与基板表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时,掩模版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩模膜,同时只有光刻胶干净、在曝光时,光刻胶才能充分地和光发生反应。同时注意前烘的温度不能过高,过高会造成光刻胶膜的碳化,从而影响光刻效果。一般情况下,前烘的温度取值比后烘坚膜温度稍低一些,时间稍短一些。

 

6、 显影条件的控制 

显影时必须控制好显影液的温度、浓度及显影的时间。在一定浓度下的显影液中,温度和时间直接影响的速度,若显影时间不足或温度低,则感光部位的光刻胶不能够完全溶解,留有一层光刻胶,在刻蚀时,这层胶会对膜面进行保护作用,使应该刻蚀的膜留下来。若显影时间过长或温度过高,显影时未被曝光部位的光刻胶也会被从边缘里钻溶。使图案的边缘变差,再严重会使光刻胶大量脱落,形成脱胶。
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